专利摘要
本发明公开了一种小口径回转轴对称光学元件抛光装置及方法。该装置包括密封容器机构，安装于密封容器机构内腔中的工作台驱动系统，与密封容器机构连接的抛光流体循环系统；密封容器机构内腔上部形成负压空间。抛光时利用负压差的吸流效应使抛光流体吸出、复合负压空穴效应对工件面进行加工，将加工的常压环境转换为负压环境，减少喷射过程中空气干扰，使抛光点缩小，增强微细磨粒的滑擦作用与稳定性；同时负压空穴效应形成强烈的空穴冲击波和高速微射流，提高了工件表面的去除效率。在磨粒切削与空穴冲蚀共同作用下进行材料去除，获得高质量的表面。该装置适用于各种回转对称曲面光学元件的抛光加工，对于自动化加工有很高的实用价值。
一种小口径回转轴对称光学元件抛光装置及方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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