IPC分类号 : G21F9/12,G21F9/20,B82Y30/00,B82Y40/00
专利摘要
本发明公开了一种处理放射性废水的MoS2/还原氧化石墨烯纳米片的制备方法，其特征在于，包括：将氧化石墨烯和H3PMo12O40加入去离子水中，搅拌并进行第一次超声，然后加入硫脲，搅拌并进行第二次超声，得到反应混合液；将反应混合液转移到特氟龙衬里不锈钢高压釜中，在140～230℃下反应24h，然后自然冷却至室温，然后用水洗涤，并干燥过夜，得到MoS2/还原氧化石墨烯纳米片。本发明制备的二硫化钼/还原氧化石墨烯纳米片，其能够在模拟阳光下同时选择性吸附和光催化还原U(VI)；采用的还原氧化石墨烯RGO不仅可以用作生长MoS2的基体，而且可以用作改善电荷分离的电子受体和转运体，从而大大提高了U(VI)萃取的光催化还原能力。
处理放射性废水的MoS2/还原氧化石墨烯纳米片的制备方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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