专利摘要

本发明公开了一种光扩散片及制作方法。光扩散片的结构特征在于，透明基材层，在所述透明基材层的一侧表面设有微结构层，在微结构层的凹陷结构内填充有扩散粒子。为了实现该扩散片，其制作方法的特征在于,由具有拓扑排列图案凸起结构的模具，通过压印方式在透明衬底上复制上述的模具结构，获得与模具结构互补的凹陷结构；通过刮涂技术，将扩散粒子刮涂进上述凹陷的微结构，形成图形化的扩散粒子排列。本发明通过图形化扩散粒子排列，解决了传统随机结构不能人工优化的问题，在图形化结构和扩散粒子共同作用下，产生光扩散效果，用于背光源和光束整形方向。

专利附图

一种光扩散片专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。