专利摘要

本实用新型涉及硅片生产技术领域，且公开了一种硅片自动清洗脱胶装置，包括装置外壳，所述装置外壳的一旁侧壁上固定安装有箱门，所述装置外壳与箱门之间转动连接有铰链，所述装置外壳的内部上侧固定安装有移动装置，所述移动装置的底部固定安装有转动装置。该硅片自动清洗脱胶装置，通过在装置的内部固定安装有脱胶池，并在脱胶池的上方固定安装有放置架，且将放置架固定安装在移动装置、转动装置和伸缩杆上，通过移动装置和转动装置实现放置架进行水平方向和数值方向上的移动，便于对放置架进行拿取，且通过转动装置将放置架在脱胶池的内部进行旋转，便于通过放置架的旋转对放置架内部的硅片进行清洗。

权利要求

1.一种硅片自动清洗脱胶装置，包括装置外壳(1)，其特征在于：所述装置外壳(1)的一旁侧壁上固定安装有箱门(2)，所述装置外壳(1)与箱门(2)之间转动连接有铰链(3)，所述装置外壳(1)的内部上侧固定安装有移动装置(4)，所述移动装置(4)的底部固定安装有转动装置(5)，所述转动装置(5)的底部固定安装有伸缩杆(6)，所述伸缩杆(6)的另一端固定安装在连接套(7)的上方，所述连接套(7)的下方与放置架(8)进行活动连接，所述放置架(8)的底部固定安装有脱胶池(13)，所述脱胶池(13)的两侧固定安装有加热管(14)，所述脱胶池(13)的底部固定安装有隔板(15)，所述隔板(15)的一侧固定连接有回流管(16)，所述回流管(16)的另一端固定安装在沉降池(17)上，所述沉降池(17)的另一端固定安装有连接管(19)，所述连接管(19)的另一端固定安装在脱胶池(13)的上部，所述连接管(19)的中部固定安装有抽水泵(20)，所述装置外壳(1)的上部固定安装有风机(22)，所述风机(22)的上下两侧均固定安装有吸附层(21)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片自动清洗脱胶装置，其特征在于：所述放置架(8)上开设有孔，所述放置架(8)的内部固定安装有挡板(9)，所述挡板(9)的间隔处开设有放置槽(10)。

3.根据权利要求1所述的一种硅片自动清洗脱胶装置，其特征在于：所述连接套(7)的底部两侧开设有槽，所述放置架(8)的上部固定安装有凸块(11)，所述连接套(7)的一侧固定安装有插销(12)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片自动清洗脱胶装置，其特征在于：所述隔板(15)的一侧倾斜安装有斜板。

5.根据权利要求1或4所述的一种硅片自动清洗脱胶装置，其特征在于：所述隔板(15)的底部一侧固定安装有冷却装置(18)，所述冷却装置(18)的数量为四个。

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅片生产技术领域，具体为一种硅片自动清洗脱胶装置。

背景技术

硅片是半导体器件的基础材料，通过在该基础材料上进行若干工序就能形成具有各种功能的半导体器件，因此在太阳能光伏行业的应用特别广泛，硅片表面的洁净度是影响硅片合格率和电池转换效率的关键因素，为获得洁净度高的硅片，往往硅片在经过线切割后需经过脱胶清洗和精细清洗两个部分，而作为第一道清洗工序的脱胶清洗虽然没有切割工艺要求那么高，但也是获得洁净片的重要工序。

现有技术中实现硅片的脱胶清洗往往采用两个工序即首先通过清洗装置对硅片的表面通过水洗，洗掉硅片表面的部分金属粉末、硅粉、碳化硅等，操作繁琐，然后再通过脱胶装置实现对硅片的脱胶，且用于对硅片脱胶的水往往是一次性使用，即浪费又不环保。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片自动清洗脱胶装置，具备自动脱胶，便于拿取的优点，解决了上述背景技术中所提到的问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种硅片自动清洗脱胶装置，包括装置外壳，所述装置外壳的一旁侧壁上固定安装有箱门，所述装置外壳与箱门之间转动连接有铰链，所述装置外壳的内部上侧固定安装有移动装置，所述移动装置的底部固定安装有转动装置，所述转动装置的底部固定安装有伸缩杆，所述伸缩杆的另一端固定安装在连接套的上方，所述连接套的下方与放置架进行活动连接，所述放置架的底部固定安装有脱胶池，所述脱胶池的两侧固定安装有加热管，所述脱胶池的底部固定安装有隔板，所述隔板的一侧固定连接有回流管，所述回流管的另一端固定安装在沉降池上，所述沉降池的另一端固定安装有连接管，所述连接管的另一端固定安装在脱胶池的上部，所述连接管的中部固定安装有抽水泵，所述装置外壳的上部固定安装有风机，所述风机的上下两侧均固定安装有吸附层。

精选的，所述放置架上开设有孔，所述放置架的内部固定安装有挡板，所述挡板的间隔处开设有放置槽。

精选的，所述连接套的底部两侧开设有槽，所述放置架的上部固定安装有凸块，所述连接套的一侧固定安装有插销。

精选的，所述隔板的一侧倾斜安装有斜板。

精选的，所述隔板的底部一侧固定安装有冷却装置，所述冷却装置的数量为四个。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

1、该硅片自动清洗脱胶装置，通过在装置的内部固定安装有脱胶池，并在脱胶池的上方固定安装有放置架，且将放置架固定安装在移动装置、转动装置和伸缩杆上，通过移动装置和伸缩杆实现放置架进行水平方向和数值方向上的移动，便于对放置架进行拿取，且通过转动装置将放置架在脱胶池的内部进行旋转，便于通过放置架的旋转对放置架内部的硅片进行清洗。

2、该硅片自动清洗脱胶装置，通过在脱胶池的内部固定安装有加热管，便于将脱胶池内部的清洗液保持恒温，便于硅片上的胶的融化脱落，且在脱胶池的底部固定安装有隔板，且隔板的一侧固定安装有回流管，并将回流管通向沉降池的内部，脱胶池中的液体在通入沉降池后在冷却装置的冷却作用下进行降温，同时将液体中的胶进行沉降，最后由沉降池一侧的抽水泵和连接管对脱胶池和沉降池中的液体进行循环，便于清洗液的循环使用，避免浪费。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型放置架示意图；

图3为本实用新型放置架俯视图。

图中：1、装置外壳；2、箱门；3、铰链；4、移动装置；5、转动装置；6、伸缩杆；7、连接套；8、放置架；9、挡板；10、放置槽；11、凸块；12、插销；13、脱胶池；14、加热管；15、隔板；16、回流管；17、沉降池；18、冷却装置；19、连接管；20、抽水泵；21、吸附层；22、风机。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，一种硅片自动清洗脱胶装置，包括装置外壳1，装置外壳1的一旁侧壁上固定安装有箱门2，装置外壳1与箱门2之间转动连接有铰链3，装置外壳1的内部上侧固定安装有移动装置4，移动装置4的底部固定安装有转动装置5，且通过转动装置5将放置架8在脱胶池13的内部进行旋转，便于通过放置架8的旋转对放置架8内部的硅片进行清洗，转动装置5的底部固定安装有伸缩杆6，通过在装置的内部固定安装有脱胶池13，并在脱胶池13的上方固定安装有放置架8，且将放置架8固定安装在移动装置4、转动装置5和伸缩杆6上，通过移动装置4和伸缩杆6实现放置架8进行水平方向和数值方向上的移动，便于对放置架8进行拿取，伸缩杆6的另一端固定安装在连接套7的上方，连接套7的底部两侧开设有槽，放置架8的上部固定安装有凸块11，连接套7的一侧固定安装有插销12，连接套7的下方与放置架8进行活动连接，放置架8上开设有孔，放置架8上开设的孔便于将清洗液对放置架8内部的硅片完全接触，便于硅片上的胶的脱落，放置架8的内部固定安装有挡板9，挡板9的间隔处开设有放置槽10，放置槽10便于将硅片放在在放置架8的内部，放置架8的底部固定安装有脱胶池13，脱胶池13的两侧固定安装有加热管14，通过在脱胶池13的内部固定安装有加热管14，便于将脱胶池13内部的清洗液保持恒温，便于硅片上的胶的融化脱落，脱胶池13的底部固定安装有隔板15，隔板15的一侧倾斜安装有斜板，隔板15具有隔热保温的效果，隔板15的底部一侧固定安装有冷却装置18，冷却装置18的数量为四个，在脱胶池13的底部固定安装有隔板15，且隔板15的一侧固定安装有回流管16，并将回流管16通向沉降池17的内部，脱胶池13中的液体在通入沉降池17后在冷却装置18的冷却作用下进行降温，同时将液体中的胶进行沉降，隔板15的一侧固定连接有回流管16，回流管16的另一端固定安装在沉降池17上，沉降池17的另一端固定安装有连接管19，连接管19的另一端固定安装在脱胶池13的上部，沉降池17一侧的抽水泵20和连接管19对脱胶池13和沉降池17中的液体进行循环，便于清洗液的循环使用，避免浪费，连接管19的中部固定安装有抽水泵20，装置外壳1的上部固定安装有风机22，风机22的上下两侧均固定安装有吸附层21。

工作原理：使用时，将硅片安装在放置槽10中，并将放置架8通过凸块11与连接套7进行活动连接，随后将插销12安装在连接套7的前端，与伸缩杆6进行连接，并通过移动装置4和伸缩杆6将放置架8深入脱胶池13的内部，同时，转动装置5带动伸缩杆6和放置架8进行旋转，带动放置架8内部的硅片进行清洗和脱胶，同时加热管14对脱胶池13中的清洗液进行加热恒温，同时脱胶池13中的携带者融化的胶的清洗液有回流管16排入沉降池17中，并在冷却装置18的作用下进行冷却脱胶，最后抽水泵20带动连接管19将沉降池17中的液体抽出重新注入脱胶池13中，即可。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。同时在本实用新型的附图中，填充图案只是为了区别图层，不做其他任何限定。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

一种硅片自动清洗脱胶装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。