专利摘要
本发明公开了一种大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法，其步骤如下：(一)确定基板约束点的数量；(二)得到基板约束点的Z轴坐标值zi；(三)构建XY平面四边形网格；(四)确定XY平面四边形网格顶点的Z轴坐标值zj；(五)构建基板打印面积的三维曲面；(六)获得当前打印基板位置的Z轴坐标值zc；(七)补偿电流体动力学打印的喷射高度。本发明突破现有的电流体动力学打印技术对大面积微纳结构器件的精确成形的限制，实现大面积结构的微纳米器件的喷墨打印和微纳米结构器件的制备。
专利附图
大面积微纳结构电流体动力学打印的喷射高度误差补偿方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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